1200℃单温区CVD系统
1200℃单温区CVD系统是一款用于实验室材料制备、薄膜沉积、气氛热处理和高温反应实验的管式炉设备。 设备采用卧式单温区加热结构，配套石英管、气体流量控制系统、真空系统及尾气排放接口， 可满足常规CVD、气氛烧结、氧化、还原、退火等实验需求。
该设备适用于高校、科研院所、半导体材料、新能源材料、碳材料、陶瓷材料及金属材料等实验领域。
产品用途
- CVD化学气相沉积实验
- 薄膜材料制备
- 氧化物、氮化物、碳材料制备
- 气氛保护烧结
- 真空退火、气氛退火
- 催化剂材料高温反应
- 石墨烯、碳纳米材料、陶瓷粉体等材料研究
设备组成
管式炉主机 采用1200℃单温区卧式管式炉结构，适合实验室CVD及气氛热处理实验。
反应腔体 可配置石英管或刚玉管，根据实验温度和工艺气氛选择。
气体控制系统 支持多路气体输入，可选配质量流量控制器，实现精确控气。
真空系统 配套机械泵、真空计及阀门管路，可按需求升级高真空系统。
技术参数
| 项目 | 技术参数 |
|---|---|
| 产品名称 | 1200℃单温区CVD系统 |
| 炉型结构 | 卧式单温区管式炉 |
| 最高温度 | 1200℃ |
| 长期使用温度 | ≤1100℃ |
| 加热区数量 | 单温区 |
| 控温方式 | PID智能控温 |
| 控温精度 | ±1℃ |
| 加热元件 | 优质电阻丝 |
| 炉膛材料 | 高纯氧化铝纤维保温材料 |
| 炉管材质 | 石英管(也可选刚玉管，可按需求选择） |
| 炉管规格 | 常用 Φ60、Φ80、Φ100mm，可定制 |
| 加热区长度 | 400mm |
| 升温速率 | 建议 ≤10℃/min，可程序设定 |
| 温控程序 | 50段程序升温、保温、降温 |
| 热电偶 | K型 |
| 工作气氛 | 氮气、氩气、氢氩混合气、氧气等 |
| 气路数量 | 可选1路、2路、3路或多路气体 |
| 流量控制 | 质量流量计控制 |
| 真空系统 | 机械泵，可选配分子泵、扩散泵或罗茨泵 |
| 真空显示 | 数显真空计 |
| 密封方式 | 不锈钢真空法兰密封 |
| 冷却方式 | 自然冷却 |
| 电源 | AC 220V |
| 安装方式 | 一体式操作台 |
气路系统配置
| 项目 | 配置说明 |
|---|---|
| 气体入口 | 2路气体独立进气 |
| 流量控制 | 质量流量控制器 MFC |
| 控制范围 | 可选 0–100sccm、0–500sccm、0–1000sccm 等 |
| 管路材质 | 304不锈钢管路 |
| 阀门配置 | 针阀、球阀、单向阀、旁通阀 |
| 混气方式 | 多路气体进入混气管后进入炉管 |
| 出气方式 | 尾气排放或连接尾气处理装置 |
真空系统配置
| 项目 | 配置说明 |
|---|---|
| 真空泵 | 旋片式机械泵 |
| 极限真空度 | 约10Pa，可根据配置提高 |
| 真空测量 | 数显真空计 |
| 真空接口 | KF快装接口 |
| 密封结构 | 不锈钢法兰 + 耐高温密封圈 |
| 选配系统 | 罗茨泵、分子泵、扩散泵、高真空计 |
产品特点
温度稳定性好 单温区加热结构，适合常规CVD和气氛热处理实验。
气氛控制灵活 可配置多路质量流量控制器，实现精确进气和混气。
密封性能可靠 两端采用不锈钢真空法兰，适合真空和保护气氛实验。
操作方便 温控、气路、真空系统集中安装，方便实验人员操作。
可定制性强 炉管直径、加热区长度、气路数量、真空系统均可定制。
适用范围广 可用于材料沉积、薄膜制备、粉体烧结、气氛反应和退火实验。
可选配置
| 可选项目 | 说明 |
|---|---|
| 炉管材质 | 石英管、刚玉管 |
| 气路数量 | 1路、2路、3路、4路或更多 |
| 流量控制器 | 国产MFC或进口MFC |
| 真空系统 | 机械泵、罗茨泵、分子泵、扩散泵 |
| 控制方式 | 仪表控制、触摸屏控制、PLC控制 |
| 数据记录 | USB数据记录、电脑软件通讯 |
| 尾气处理 | 水洗瓶、燃烧装置、吸收装置 |
| 安全保护 | 氢气报警、气体联锁、超温保护 |
应用领域
- 半导体材料实验
- 光伏材料研究
- 石墨烯及碳材料制备
- 陶瓷材料烧结
- 金属材料气氛退火
- 催化剂材料制备
- 新能源电池材料研究
- 高校及科研院所实验室
说明： 本产品支持非标定制，炉管尺寸、加热区长度、气路数量、真空系统、控制方式及安全保护系统均可根据客户实验工艺要求配置。